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    痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion

    簡要描述:

    痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion專為痕量和超痕量元素分析定制,滿足嚴苛的用水要求。Genie De-ion 是樂楓專門設計,與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統配合使用的純化、取水終端,提供超低元素水平的分析級超純水,離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平,使用者可通過Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開關控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合

    更新時間:2022-01-25

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    痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion

       痕量和超痕量分析在科研、工業和檢測等各個領域發揮著越來越重要的作用,這些極高靈敏度的分析技術對分析過程中的污染風險零容忍。純水在其中,參與清洗部件、冷卻、標準曲線繪制、樣品制備等諸多環節。水的純度,必須滿足嚴苛的要求。

       痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion 是樂楓專門設計,與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統配合使用的純化、取水終端,提供超低元素水平的分析級超純水,離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平,使用者可通過Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開關控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)、石墨爐原子吸收(GF-AAS)等各種痕量/ 超痕量元素分析技術。

    Genie De-ion.jpg

    痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion 優勢特點

    ● 裝有 ICP 型超純化柱,對超純水進行深度純化進一步去除痕量離子,持續提供ppt 或亞ppt 離子水平的超純水。

    · 優化水路設計,提高過水量,水質穩定。

    · 柱體耐壓強,接口雙重密封,漏水風險低。

    · 帶智能識別碼(RFID),智能化管理,工作狀態實時監控,隨時追溯水質歷史數據、使用參數等。

    · 安裝更換簡單,可以單手操作。

    ● 終端自帶彩色觸摸屏

    · 2.4 英寸,實時顯示水質/ 流速等常用信息。

    · 可戴手套和帶水操作。

    · 設置手動或定量取水,調節流速。

    ● 布局靈活,安裝便利,節省實驗室空間

    布局靈活Genie De-ion.jpg

    典型應用

    · ICP-MS 分析

    · 石墨爐原子吸收光譜分析

    · 痕量和超痕量元素分析

    · 關鍵儀器清洗等

    應用領域/ 行業

    · 電子、芯片、半導體

    · 食品、農業、藥品、醫學

    · 環保、地質

    · 核工業、能源、法醫、

    · 化學化工等

    性能指標

    超純水技術指標

    取水流速

    0 - 1.5 L/min

    電阻率 ( @ 25℃ )

    18.2 MΩ·cm

    TOC

    < 5 ppb

    尺寸及重量

    寬 × 深 ×高

    21 cm × 29 cm × 53 cm

    重量

    21 kg



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